聚焦离子束FIB
Part.1
FIB聚焦离子束系统具备 FIB、SEM、EDS 功能,可实现微观结构观察(50x~2,000,000x)、Be-U 范围内元素分析(深度 2-3μm,面积 > 1μm)及切割(Xe⁺,深度 < 100μm)、Pt 沉积、XeF₂蚀刻等操作;其扫描方式包括点扫描(20-40s 出结果)、线扫描(反映元素分布)、面扫描(呈现分布及总比例),可满足不同分析需求。
核心功能
集成了FIB(聚焦离子束)、SEM(扫描电子显微镜)和EDS(能量色散X射线光谱)技术,实现多模态分析
功能介绍
●微观结构分析: 放大倍数范围:50x~2,000,000x,允许从宏观到纳米级别的详细观测
●元素分析: 可分析元素范围:从铍(Be)到铀(U) 探测深度:2-3μm(微米) 最小分析面积:>1μm²(需大于1平方微米) ●切割能力: 使用氙离子(Xe+) 最大切割深度:<100μm ●沉积功能: 材料:铂(Pt)沉积,常用于样品连接或标记 ●蚀刻功能: 使用二氟化氙(XeF2)气体,用于样品表面处理 ●性能限制:元素分析的深度和面积限制(深度2-3μm,面积>1μm)可能影响深层次或微小区域的精确度 END
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