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聚焦离子束FIB


聚焦离子束FIB

Part.1




FIB聚焦离子束系统具备 FIB、SEM、EDS 功能,可实现微观结构观察(50x~2,000,000x)、Be-U 范围内元素分析(深度 2-3μm,面积 > 1μm)及切割(Xe⁺,深度 < 100μm)、Pt 沉积、XeF₂蚀刻等操作;其扫描方式包括点扫描(20-40s 出结果)、线扫描(反映元素分布)、面扫描(呈现分布及总比例),可满足不同分析需求。



核心功能

集成了FIB(聚焦离子束)、SEM(扫描电子显微镜)和EDS(能量色散X射线光谱)技术,实现多模态分析

功能介绍


●微观结构分析:

放大倍数范围:50x~2,000,000x,允许从宏观到纳米级别的详细观测


●元素分析:

可分析元素范围:从铍(Be)到铀(U)

探测深度:2-3μm(微米)

最小分析面积:>1μm²(需大于1平方微米)


●切割能力:

使用氙离子(Xe+)

最大切割深度:<100μm


●沉积功能:

材料:铂(Pt)沉积,常用于样品连接或标记


●蚀刻功能:

使用二氟化氙(XeF2)气体,用于样品表面处理


●性能限制:元素分析的深度和面积限制(深度2-3μm,面积>1μm)可能影响深层次或微小区域的精确度


END



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