优尔鸿信检测具备全流程、多手段的失效分析能力:覆盖从被动元器件(电阻、电容)到主动元器件(IC芯片)的各类电子元件,通过标准化五步流程(信息收集→方案设计→试验实施→分析验证→报告总结),结合11种核心设备(如X-ray、SEM、超声波扫描仪、FIB等)和10种专业手法(外观检查、切片研磨、OBIRCH热点定位等),实现从无损检测到破坏性分析的精准诊断。
一、失效定义与影响因素
失效定义:产品因内部或外部环境因素导致电学特性或物理、化学性能降低至不满足要求的状态。
影响因素:
材料、设计、工艺(如原材料缺陷、设计错误)。
环境应力:过电、温度、湿度、机械应力、静电、重复应力。
时间(长期老化)。
隐含因素:供应链风险、操作失误。
二、失效分析流程(五步框架)
信息和数据收集:产品背景、失效现象、环境数据(如案例I的空调使用记录)。
试验方案设计:
优先无损检测(外观/X-ray/超声波)。
破坏性测试(切片/开封)仅在必要时。
失效定位分析(如热点检测)。
试验实施:
外观检查(显微镜)、功能测试(IV曲线)。
物理分析(切片研磨/Delayer)。
结果分析和验证:
数据关联性分析。
模拟验证(如ESD测试复现失效)。
结果总结和报告整理:
结论需明确责任(如来料不良)。
注明分析风险
电子元器件失效分析常用手法及设备
检测项目 | 目的 | 设备 / 工具 |
外观检测 | 检查零件本体损伤、丝印核对 | 3D 显微镜、金相显微镜、电子扫描电镜 |
电性量测 | 确认零件参数是否正常 | 万用表、示波器、特性曲线仪 |
X - ray | 分析内部结构,如裂痕、断线 | X - ray 检测仪、CT |
超声波扫描 | 检测内部结构缺陷,如分层、空洞 | 超声波扫描仪 |
切片研磨 | 观察样品截面组织结构 | 研磨抛光机 |
开封检测 | 检查 IC 内部芯片、打线异常 | 化学自动开封机、激光开封机 |
OBIRCH | 定位芯片热点、分析电阻异常 | OBIRCH 设备 |
EMMI | 检测半导体器件缺陷发出的光子 | 微光显微镜 |
Delayer | 逐层去除芯片结构,检视缺陷 | 离子蚀刻、化学药液蚀刻等设备 |
FIB | 观测芯片截面结构与材质 | 聚焦离子束设备 |
汽车材料零部件测试